1. 한국형 디스커버리 제도 도입 요청 시급

우리 기술유출 피해액이 25조원 규모에 달하는데, 벌금도 미미하고 소송을 진행하면 폐업 후 이름 바꿔 재영업하므로 기술을 빼돌린 사람들은 제대로 처벌도 받지 않습니다. 따라서 '한국형 디스커버리 제도' 도입에 대한 요청이 시급합니다.

중국의 대표 반도체 기업 창신메모리입니다. 2016년 설립 이후 빠르게 18나노 D램 양산에 성공했는데, 그 배경엔 삼성전자 기술 유출이 있었습니다.
중국 디스플레이 1위 업체 BOE에도 우리 기업의 OLED 관련 기술이 흘러 들어갔는데, 현재 미국에선 소송이 진행 중입니다.
중국 기술 기업들의 급성장엔 우리 기술 유출이 자리하고 있는 겁니다.
실제 경찰청은 최근 5년간 적발한 산업기술 및 영업비밀 유출 10건 중 7건이 중국으로 유출됐다고 밝혔습니다.
지난 10년 새 산업기술보호법 위반으로 재판이 이뤄진 건수는 2백 건에 육박했습니다. 하지만 그중 실형을 선고받은 건 다섯 건 중 한 건에 불과합니다. 죄를 입증하기 어려운 데다 대부분 초범이라 약한 처벌을 받은 겁니다. 문제는 지난 5년간 유출 피해액이 23조 원에 이를 정도로 천문학적인데 미국 등 해외에 비해 처벌과 벌금이 미미하여 재발 가능성이 높단 겁니다.

2. 특허법원, WIPO와 함께 개최…AI와 지식재산권 등 논의

특허법원은 세계 각국 지식재산 전문 법관들이 모여 지식재산권 재판 관련 논의를 하는 '마스터 클래스'를 오는 13∼15일 사법연수원에서 세계지식재산기구(WIPO)와 함께 연다고 7일 밝혔다.

유엔 산하 기관인 WIPO는 지식재산권 국제 표준을 마련하고, 지식재산권에 관한 새로운 국제 규범을 형성해 나가고 있다. 이번 마스터 클래스에는 영국·프랑스·중국·일본 등 20여개국에서 온 25명의 지식재산 전문 법관과 국내 지식재산 전문 법관 12명이 참여한다. 이들은 인공지능(AI)과 지식재산권, 제약·생명공학 관련 특허 문제, 영업비밀 공동소유자의 침해 문제 등 지식재산권 관련 최신 이슈에 대해 논의할 예정이다. 관련 사건 처리 경험도 공유해 조화로운 판단 기준을 마련하고, 국제적인 협력도 도모한다. 이번 마스터클래스는 중국, 미국, 독일, 인도에 이어 다섯번째로 열리는 것이다. 전체 교수진 9명 가운데 4명이 우리나라 법관으로, 전 세계 주요국 특허청(IP5, 한국·미국·중국·유럽연합·일본) 국가로서 위상을 확인하는 자리라고 특허법원은 설명했다.

3. 1만건 도둑맞은 K상표…동남아 도용 ‘중국 2배’

국내 빙수 브랜드 ‘설빙’은 2015년 중국에 진출하려다 곤욕을 치렀다. 일찌감치 한 중국 업체가 설빙과 유사한 ‘설빙원소’ 상표를 중국 당국에 등록해 영업을 해왔기 때문이다. 설빙은 중국 당국에 해당 상표권 무효 심판을 제기해 2022년 이겼지만 실익은 없었다. 14일 설빙 관계자는 “분쟁에 휘말리는 동안 환산하기 어려운 시간적·금전적 피해를 봤다”고 말했다.

이처럼 한국 기업의 브랜드가 해외에서 상표권을 무단으로 선점 당하는 사례가 늘고 있다. 특허청에 따르면 지난해 무단 선점이 의심되는 모니터링 건수는 9249건으로 전년보다 84.4% 증가하며 역대 최고치를 기록했다.

2017년까지 연간 1000건 미만이었지만 2018년 1666건, 2020년 4522건, 2022년 4654건, 2023년 5015건 등 급증세다. 국가별로는 중국에 당하는 비중이 압도적으로 크지만, “최근에는 베트남·인도네시아 등 동남아 중심으로 상표권 무단 선점이 가파르게 늘어나는 추세이다. 지난해 피해 건수에서 동남아(5091건)는 중국(2162건)의 2배를 넘었다.

4. 특허청, 디자인 선진5국과 협력성과 공개…국가별 현황 비교정리

특허청은 디자인 선진 5개국(ID5)과 협력해 최근 완료한 '메타버스에서의 디지털 디자인 보호 보고서'를 ID5 공식 누리집(https://id-five.org)을 통해 공개했다고 21일 밝혔다.

이 보고서는 가상현실(VR)과 증강현실(AR) 등 신기술 발전에 따른 디자인의 국가별 등록 가능성 및 보호 현황을 가설적인 예시와 함께 비교·정리한 것이 특징이다.

ID5는 디자인 분야 선진 5개국(한국·미국·일본·중국·유럽) 협의체로, 특허청은 사용자 친화적인 디자인보호제도의 발전을 위해 2016년 ID5 출범 이후 수행해온 30여개 협력과제 결과물을 이번에 ID5 공식 누리집을 통해 전 세계 사용자들에게 공개하게 됐다고 설명했다.

메타버스에 관한 보고서 외에 중국이 주도한 '디자인 도면 작성을 위한 사용자 가이드'도 제작이 완료돼 공개됐다. 이 가이드에는 국가별 도면 양식 공통점과 차이점, 부분 디자인 작성 요령 등 구체적인 정보가 수록됐다.

한국특허청의 상표디자인심사국장은 "디자인 분야는 특허·상표보다 디자인 보호제도의 편차가 큰 만큼 법제도 조화를 위한 국제협력이 매우 중요하다"며 "앞으로 사용자에게 도움이 될 수 있는 ID5 협력과제를 적극 추진하고, 그 결과를 바로 공개해 지식재산권 분야에서 국제적인 리더십을 발휘하겠다"고 말했다.